產(chǎn)品分類
Cu-R除銅水 Nitec Cu-R
1.鎳槽專用產(chǎn)品,能將銅離子污染絡(luò)合沉淀,通過過濾去除。2.適用于鍍銅后的半光亮鎳鍍液,解決因銅污染造成的低電流密度區(qū)故障。3.亦適用于光亮鎳,減少鎳槽里的銅雜質(zhì)含量。?使用濃度:?Cu-R除銅水0.1-0.5ml/l(最佳0.3ml/L?)添加時,建議用水稀釋1至2倍加入?注意事項;??避免和光劑同時加入___________V1.1TC110322本說明書為中文譯本,只供參考,應以英文版為準。本說明書上所有建議,是根據(jù)信賴的實驗室資料編成,由于不同的生產(chǎn)設(shè)備及工藝條件,可能會造成效果的差異,本公司并不承擔任何責任。本說明書的所有內(nèi)容不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)。
所屬分類:
鍍鎳工藝
關(guān)鍵詞:
電鍍
產(chǎn)品詳情
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Nitec Cu-R |
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Cu-R除銅水 |
工藝編號: |
32630 |
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簡介:
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1.鎳槽專用產(chǎn)品,能將銅離子污染絡(luò)合沉淀,通過過濾去除。 |
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2.適用于鍍銅后的半光亮鎳鍍液,解決因銅污染造成的低電流密度區(qū)故障。 |
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3.亦適用于光亮鎳,減少鎳槽里的銅雜質(zhì)含量。 |
使用濃度:
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Cu-R 除銅水 |
0.1-0.5ml/l(最佳0.3 ml/L ) |
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添加時,建議用水稀釋 1至2倍加入 |
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注意事項;
避免和光劑同時加入
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V1.1TC110322
本說明書為中文譯本,只供參考,應以英文版為準。本說明書上所有建議,是根據(jù)信賴的實驗室資料編成,由于不同的生產(chǎn)設(shè)備及工藝條件,可能會造成效果的差異,本公司并不承擔任何責任。本說明書的所有內(nèi)容不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)。
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珍珠鎳2號 Crystallized No. 2