P11硅片清洗劑配合超聲波，專門(mén)應(yīng)用于硅片表面（EGSW）在切鋸，研磨及其他化學(xué)機(jī)械加工處理之后的垂直浸泡清洗。本品還可作為堿蝕的添加劑。特性：-??微堿性清洗劑。-??高效，能溶解和去除鋸齒泥漿。-?分散能力非常好，能把已去除的微粒保存在溶液中，不會(huì)再次沉積到工件上。-?吸收油污量大，槽液使用壽命長(zhǎng)。-???對(duì)硅片溫和微蝕，如有需要可使用氫氧化鈉改變微蝕速率。添加P11至氫氧根堿性溶液可降低蝕率的因數(shù)為10-20。因此，P11特別適合用于在生產(chǎn)過(guò)程中，當(dāng)需要使用堿性去除表面物質(zhì)（如：塑料復(fù)膜）。-??適合用于所有硬質(zhì)表面，亦適用于半導(dǎo)體物料如GnAs。-?配合超聲波或超音波來(lái)大批量處理，效果非常出色。-P11所含的表面活性劑對(duì)強(qiáng)堿和高溫非常穩(wěn)定。-?P11適用于有純度要求，每批Puratron-11的鋁、銅、鉻、鐵、鎳、鋅的濃度都經(jīng)量度和證實(shí)，這些金屬雜質(zhì)的范圍在0.3-2.0ppm（視金屬而定）。-P11亦適用于超過(guò)濾。操作：P11用于超聲波垂直清洗工藝??????濃度???5-8%??????溫度???40-90℃可添加P11?1-3%至堿蝕溶液以改善堿蝕效果。環(huán)境保護(hù)：P11的主要物質(zhì)是生物降解類(lèi)，符合歐盟指引（648/2000）。溶液廢棄須根據(jù)使用者當(dāng)?shù)胤ㄒ?guī)處理。

所屬分類(lèi)：

電鍍前處理

關(guān)鍵詞：

電鍍

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簡(jiǎn)述：

P11 硅片清洗劑配合超聲波，專門(mén)應(yīng)用于硅片表面（EGSW）在切鋸，研磨及其他化學(xué)機(jī)械加工處理之后的垂直浸泡清洗。本品還可作為堿蝕的添加劑。

特性：

- 微堿性清洗劑。

- 高效，能溶解和去除鋸齒泥漿。

- 分散能力非常好，能把已去除的微粒保存在溶液中，不會(huì)再次沉積到工件上。